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UNIST-SK하이닉스, '차세대 메모리 R&D 산학협력' 성과 공유
신소재 기반 반도체 연구센터 2차년도 완료 발표회 개최
신규 채널·배선·분석 연구성과 점검, 후속 협력 방향 논의
UNIST와 SK하이닉스가 차세대 메모리 핵심기술 확보를 위한 산학협력 성과를 공유했다.
UNIST 반도체 소재·부품 대학원은 6월 25일(목) SK하이닉스 이천캠퍼스에서 ‘UNIST-SK하이닉스 신소재 기반 반도체 연구센터 클러스터 산학 연구 2차년도 완료 발표회’를 열었다.
이번 발표회는 지난 1년간 진행한 공동 과제 성과를 공유하고, 다음 단계 방향을 정하기 위해 마련됐다. UNIST 참여 연구진과 SK하이닉스 실무진은 과제별 결과를 살피며 실제 반도체 현장에 필요한 기술 과제를 논의했다.
클러스터 산학 연구는 SK하이닉스가 새로 만든 산학 R&D 과제 플랫폼이다. 첨단 기술·인프라를 갖춘 거점 대학과 연구자를 선정하고, 대학별 강점 분야를 중심으로 ‘거점 기술센터’를 운영하는 방식이다. 한 기관이 잘할 수 있는 분야에 역량을 모아 특화 기술을 키우는 것이 목표다.
UNIST-SK하이닉스 클러스터 산학 연구는 차세대 메모리 기술 개발을 겨냥한다. 연구 주제는 크게 세 가지다. 새로운 반도체 소재를 찾는 ‘신규 채널 소재’, 반도체 안에서 전기 신호를 안정적으로 보내는 ‘배선 기술’, 소재와 소자 특성을 정밀하게 확인하는 ‘분석 기술’이다.
이날 발표회에서는 각 주제별 세부 PI들이 지난 1년간 수행한 결과를 내놨다. 이어 후속 과제 방향을 두고 의견을 나눴다. 대부분 세부 그룹은 목표치를 100% 달성했다. SK하이닉스 실무진은 이를 바탕으로 각 팀에 구체적 의견과 요청 사항을 전달했다.
이날 논의의 핵심은 연구 결과를 실제 산업 수요와 어떻게 연결할지에 있었다. UNIST 연구진은 기술의 가능성을 설명했고, SK하이닉스 실무진은 현장 적용 관점에서 보완할 부분을 제시했다. 산학 공동연구의 특성이 잘 드러난 자리였다.
대학원생을 포함한 참여 연구진 대상 FAB 투어도 진행됐다. 학생들은 실제 반도체 생산라인이 움직이는 현장을 둘러봤다. 실험실에서 다루던 소재와 기술이 산업 현장에서 어떻게 쓰이는지 확인하는 시간이었다. 현장 경험은 학생들에게도 의미가 컸다. 참여 학생들은 FAB 견학을 통해 반도체 산업 구조를 더 구체적으로 이해했다. 앞으로 이어갈 연구 주제에 대한 관심과 동기도 높였다.
김수현 반도체 소재·부품 대학원장은 “UNIST와 SK하이닉스의 긴밀한 산학협력을 바탕으로 우수한 연구 성과를 창출하겠다”며 “참여 연구원 연구 역량 강화와 진로 경쟁력 향상을 위해 지속적으로 노력하겠다”고 말했다.
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